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盤點(diǎn)2013年LED照明十大關(guān)鍵字

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2014-10-10     來源:[標(biāo)簽:出處]     作者:[標(biāo)簽:作者]     瀏覽次數(shù):129
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訊 盤點(diǎn)2013年LED照明十大關(guān)鍵字

領(lǐng)域的發(fā)展?jié)摿σ驳玫綐I(yè)界的認(rèn)可。

  OLED,正是從2012年正式登上了照明的舞臺,雖然目前只是一個小角色,但是對LED有不小的替代威脅。

  在4月的法蘭克福展上,Philips首次展示出最新OLED技術(shù)的Lumiblade OLED GL350面板,每片GL350OLED面板尺寸約155平方公分,亮度可達(dá)115LM。

  而在2012年5月8日-11日的美國拉斯維加斯照明展上,Philips再次展出了一個OLED鏡子的產(chǎn)品,它會自動感應(yīng)人體的接近與否,自動把周圍的OLED光源模組做調(diào)整,中間變暗變成具備鏡子的效果。成功的將智慧燈具和OLED的概念整合在一起。

  作為全球照明市場領(lǐng)導(dǎo)品牌的Philips,押寶OLED的意味非常明顯。

  但是,OLED應(yīng)用于照明領(lǐng)域,光效卻是一個不小的考驗(yàn)。在顯示領(lǐng)域OLED亮度達(dá)到100——300cd/cm2就可以得到應(yīng)用,然而在照明用途中,亮度至少要達(dá)到1000——3000cd/cm2。未來幾年,OLED與LED在照明領(lǐng)域的此消彼長的速率,將取決于OLED光效追趕的進(jìn)度。

  關(guān)鍵字二:PSS

  PSS(Patterned Sapphire Substrate),也就是在藍(lán)寶石襯底上生長干法刻蝕用掩膜,用標(biāo)準(zhǔn)的光刻制程將掩膜刻出圖形,利用ICP刻蝕技術(shù)刻蝕藍(lán)寶石,并去掉掩膜,再在其上生長GaN材料,使GaN材料的縱向發(fā)展變?yōu)闄M向。一方面可以有效減少GaN外延材料的位元錯密度,從而減小有源區(qū)的非輻射復(fù)合,提升內(nèi)量子效率,減小反向漏電流,提高LED的壽命;另一方面有源區(qū)發(fā)出的光,經(jīng)GaN和藍(lán)寶石襯底接口多次散射,改變了全反射光的出射角,增加了倒裝LED的光從藍(lán)寶石襯底出射的幾率,從而提高了光的提取效率。

  因此,PSS一時間成為外延廠商爭相采用的提升亮度的主流技術(shù),迅速的普及化,到2013年下半年P(guān)SS已經(jīng)占到了全世界LED用藍(lán)寶石基板的近八成。

  而上半年的時候,藍(lán)寶石襯底平片價格跌入低谷,襯底廠商普遍的陷入虧損。而PSS因?yàn)槭袌鲂枨髲?qiáng)勁,一時間市場價格超過平片2倍以上,吸引藍(lán)寶石基板廠加碼部署,期望以此突破營收虧損的困境。然而隨著新增產(chǎn)能逐漸投入使用,PSS價格下降的速度也是驚人之快。

  而一些大廠此時已經(jīng)考慮采用更為先進(jìn)的nPSS技術(shù),nPSS的pitch不到1um,亮度能比PSS再提升3%到10%。而壓印要比蝕刻的成本更低出1美金以上,穩(wěn)定性及一致性表現(xiàn)也要好。期待靠PSS來拯救頹勢的襯底廠恐怕又一次要失望,不過技術(shù)進(jìn)步的路徑誰又能猜得到?

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