2013年度光子學(xué)及激光領(lǐng)域前20大進(jìn)展

網(wǎng)訊：光子學(xué)世界中的人們擅長的是提出新奇的點(diǎn)子和發(fā)明有趣的新鮮事物，同時他們還不斷的推動著現(xiàn)有的光子學(xué)技術(shù)進(jìn)步。接下來將為你帶來2013年度光子學(xué)及激光領(lǐng)域的前20大進(jìn)展：

及其測試方法

已經(jīng)實現(xiàn)了商業(yè)化生產(chǎn)，第一臺產(chǎn)品在今年的早些時候被運(yùn)送到NADEX激光研發(fā)中心(位于日本名古屋)，該中心主要針對激光器的材料處理性能開展詳細(xì)研究。對于這臺激光器，Ophir Photonics公司(位于猶他州北洛根)特意研發(fā)了一種激光功率計，在輸出1070納米的激光時，測程能夠覆蓋到100千瓦。

)進(jìn)行光刻而言，現(xiàn)如今的技術(shù)已經(jīng)發(fā)展到了極限，光刻技術(shù)的發(fā)展的新方向就是13納米的極紫外(EUV)光刻。與以前一樣的是，光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)越大，其分辨率越高。